第94章断供
东京应化、JSR、住友化学、富士胶片占据光刻胶市场70%以上的市场份额。
光刻胶一旦断供,晶圆厂就得停工。
无疆微电子公司总不能把希望一直寄托于RB人的善良和好心,认为他们不会断供吧。
光刻胶的市场并不大,10亿美元不到,但极其重要。
前世,国内无论是光刻机,还是光刻胶,都被国外拿捏。
光刻胶的生产难度也非常高,不单单是其配方,最难攻破的还是工艺,其中,曝光设备和感光检测设备远远落后于国外。
另外,RB还在光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料领域,同样具备较高的垄断程度。
所以赵烨现在要研制光刻胶,既要研究光刻胶配方与工艺,还要投入资金研究和生产光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料,投资比较大,但是投资再大也要去做。赵烨不去做的话,国内就没有人去做了。
试想,一旦光刻胶断供,晶圆厂停工,那赵烨在无疆微电子公司投资的那么多的人力和财力,都等于是浪费了。
赵烨相信,以美国为首的西方国家,绝对能够做得出来。
所以,自力更生,才是王道。
黄昆、秦国刚、王守武、王圩等院士们很热衷于帮助赵烨建立「无疆光刻胶有限公司」。
于是,赵烨就把这件事托付给他们负责,自己最后出钱就是了。
……
光刻胶占据电子材料至高点,对于国家的发展至关重要。
上游原材料且不提,主要是中游制造,主要分为:PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶三种,分别对应着下游应用:PCB产业、面板产业、半导体产业。最后则是电子产品应用终端,比如手机、家电、航空航天、汽车电子等等。
不难看出,发展光刻胶对于一个国家科研、工业产业等发展至关重要。
前世,半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)以及新兴起的EUV光刻胶5大类,高端光刻胶指KrF、ArF和EUV光刻胶,等级越往上其极限分辨率越高,同一面积的硅晶圆布线密度越大,性能越好。
当前的半导体制程还不那么先进,主流工艺在800-1200nm之间,因此波长436nm的光刻光源就够用。
中国在70年代就开始研究光刻胶了。
光刻胶巨头JSR,也只是在1979年进入光刻胶领域。但JSR的半导体光刻胶逐渐全面覆盖从g线到EUV。
而中国直接在八十年代放弃光刻胶的研发了。
不过这也怪不得当时的决定,处处落后,各方面都被国外垄断了,想要发展光刻胶,简直难如登天。
但如今,龙芯设计公司、无疆微电子公司和
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